본제품은 플라즈마 기술을 기반으로 대기 중 오염물질을 제거하는 시스템으로, 2단계의 필터링 과정으로 구성되어있으며, 특히 지하역사 및 단체 급식을 위한 조리실에서 발생하는 조리흄을 효과적으로 제거하는 시스템이다.

OH-RADICAL 생성기술을 통해 물을 일정 압력을 가하여 모세관에 주입한 후 모세관과 일정거리로 이격된 전극판에 각각 DC HIGH VOLTAGE(모세관+, 전극판-)를 인가함. 이때 모세관 끝에서 TAYLOR CONE이 형성되며 나노 크기의 물 입자가 생성되고, 이와 동시에 생성되는 OH RADICAL은 물입자에 갇히게 되고 상태 유지 시간이 증가되며, OH-RADICAL을 생성, 함유시켜 탄소화물, 질소산화물 등의 유해가스 및 바이러스 등 오염물질을 분해 제거한다.