Polymer vacuum-deposited peripherals for semiconductor manufacturing increase the water-contact angle, delaying the attachment of dust and other particles to the component walls. 

The coating layer also delays the corrosion of components in strong acids, thereby extending the lifespan of the parts. Utilizing polymer vacuum deposition in the coating process suppresses the occurrence of pores and creates a dense coating layer, preventing the infiltration of strong acids into the interior. This technology allows coating on complex shapes and fine holes, making it possible to coat components that are challenging to implement with traditional Teflon coatings. Additionally, to proactively address diverse customer demands, we can apply this technology to supply customized components tailored to customer needs.

Semiconductior Pipe
Bellows
Centering
Water block
Nozzle